今天漓源環保給大家講解芯片生產線廢水處理方法，在半導體制造技術中，通過一系列的光刻、刻蝕、沉積、離子注入、研磨、清洗等工藝形成具有各種功能的半導體芯片，然后將所述半導體芯片進行封裝和電性測試，并終形成終端產品。目前，在半導體芯片的制造過程中，會產生大量的工業廢水。

在現有的解芯片生產線廢水處理過程中，通常單獨使用序列間歇式活性污泥法(SBR)或生物接觸氧化法或曝氣生物濾池(BAF)，均只能對廢水進行單一的處理，例如為過濾或微生物反應或去除毒性等，由于處理方式過于單一，這常常導致過濾物質很快堵塞的問題。因此，廢水處理仍有改善的空間。

主要目的在于提供一種芯片生產線的廢水處理方法，以解決現有技術存在的處理方式過于單一，這常常導致過濾物質很快堵塞的問題。

半導體芯片行業將生產廢水處理系統分為：含氨廢水處理系統、含氟廢水處理系統、CMP研磨廢水處理系統及酸堿廢水處理系統。

含氨廢水有兩部分，一部分是濃氨氮廢水，主要含氨氮和雙氧水，氨氮濃度達400～1200mg/L;另一部分是稀氨廢水，主要含氟化氨，氨氮濃度低于100mg/L。

含氟廢水處理系統

工藝中采用CaCl溶液代替傳統去氟采用的消石灰，可減少氟化鈣污泥量、原料用量和堿液，同時，可避免粉態消石灰的逸散，防止管道堵塞，易于控制投加量，確保系統的穩定高效運行。

以上為漓源環保給大家簡述的芯片生產線廢水處理方法，更多的污水處理知識請咨詢漓源環保。

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